HI84100微電腦二氧化硫滴定分析儀快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。滴定范圍：0 to 400 ppm of SO2 。集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。具有穩定標識和校準信息等顯示功能。性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果。

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意大利哈納HANNA HI84100 微電腦二氧化硫滴定分析儀

HI84100微電腦二氧化硫滴定分析儀

HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將zui先與二氧化硫發生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發酵，并抑制其他雜菌。

• 基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體
• 性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果
• 人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。

技術參數：

型號	HI 84100
滴定范圍	0 to 400 ppm of SO₂
滴定方法	等電位氧化還原滴定法
滴定精度	讀數的5%
取樣量	50 mL
ORP電極	HI 3148B
供電方式	220V/60 Hz；10VA
使用環境	0 to 50°C （32 to 122°F）；RH max 95%
尺寸重量	208 × 214 × 163 mm；2200 g